技術資料

高温真空加熱装置KG-2000

技術開発室 技術研究所 光学システムグループ
技術開発室 技術研究所 材料開発グループ
光源事業部 生産技術部 生産技術グループ
光応用事業部 光応用営業部 技術グループ
光応用事業部 光応用営業部 LH営業課

キーワード

高温真空加熱装置，2000℃，金属ヒーター

2．商品概要(つづき)

2.2 熱処理プロセス

表1　熱処理プロセスの概要

本装置による熱処理プロセスの概要は表1の通りである。

温度と圧力の時間変化で表わした本装置のプロセス例を図2に示す。


図2　プロセス例

3．特徴・機能

  1. ヒーターの構成材料に高融点金属のタングステン(W)及びモリブデン(Mo)を用いたので，カーボンを用いる場合に生じる処理雰囲気内の汚染等の問題が起こらない。
  2. 予備加熱室，主加熱室への搬送機能により，予備加熱室で不純ガスを放出させ，予め2000℃に加熱した主加熱室に瞬時に搬送する為，予備加熱室で加熱された800℃の試料は数分で2000℃に到達し，且つクリーンな状態で加熱することが可能である。
  3. 消費電力を極力抑える為，各ヒーター周囲に高融点金属で出来た反射板を設置し，ヒーターから発生する赤外線を反射させ試料に戻す構造になっているので，消費電力を50kW以下にすることが出来た。
  4. 本加熱室は基本的にメンテナンス以外は真空雰囲気を保った状態にあり，大気中に触れることがほとんどない為，ヒーター自身の長寿命化にも繋がる。

このような機能を生かし，次の分野での応用が期待できる。

  1. RTP装置への応用
  2. 物性改質用装置
  3. 半導体デバイス用装置

4．おわりに

高融点金属のヒーターと，反射板を用いることにより，高真空で且つ2000℃雰囲気が可能でクリーンなプロセスを実現できる装置を開発することが出来た。

今後の展開の可能性として，

  1. 高温真空炉体の販売
  2. 新素材の共同開発

などが挙げられる。

この記事は弊社発行「IWASAKI技報」第9号掲載記事に基づいて作成しました。
(2003年11月14日入稿)


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